ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Название англ.: Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements

Содержание госта: Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники


ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 1 из 3)
ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 2 из 3)
ГОСТ 25196-82 Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования (фото 3 из 3)